紫外光刻机
发布人:金明革
发布日期:2026-04-24

品牌、型号:ABM/8/500/NUV/DCCD/BSV/SA
放置地点:工学园1-B110
联系方式:王老师 wangm376@mail.sysu.edu.cn
主要配置:500W 近紫外光源及控制器、显微镜及对准系统2/4/6/8英寸卡盘,3x3/5x5/7x7/9x9英寸掩膜板夹具灯等。
主要技术指标:光刻分辨率~1 μm,正面套刻精度~0.5 μm,背面套刻精度~1.0 μm。
主要应用范围:用于微纳结构器件加工,适配硅基、光学、柔性等多类基底,支撑微电子、光电子、新型功能材料、生物微流控等多学科研究。
设备预约链接: https://sharing.sysu.edu.cn/home/#/orderDetail?id=3410
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